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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片
用于分隔 Nd:YAG 諧波波長
分光鏡鍍膜透射率 >95%
λ/10 熔融石英基片
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片用于分隔 Nd:YAG 激光器的常見諧波波長。表面上的分光鏡鍍膜至少能反射一個波長，并傳輸另一個波長。分光鏡的第二表面具有防反射鍍膜，減少反射導致的損失. TECHSPEC® Nd:YAG 諧波分離器是專為 45°入射角時的集成而設計。這些諧波分離器在多種波長配置中提供，用于使系統設計獲得靈活性.
通用規(guī)格
| 厚度 (mm): | 6.35 ±0.20 |
| 基底: | Fused Silica |
| 入射角 (°): | 45 |
| 表面平整度: | λ/10 |
| 表面質量: | 10-5 |
| 構造 | Dichroic |
產品信息
AOI (°) | 反射波長 (nm) | 傳輸波長 (nm) | Dia. (mm) | 涂層規(guī)格 | 產品編碼 |
| 45 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-545 |
| 45 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-546 |
| 45 | 266 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-722 |
| 45 | 266 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-721 |
| 45 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-720 |
| 45 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-719 |
| 45 | 355 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-779 |
| 45 | 355 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-778 |
| 45 | 532 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-718 |
| 45 | 532 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-717 |
| 45 | 532 | 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #37-716 |
| 45 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #37-715 |
| 45 | 532, 1064 | 266 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-547 |
| 45 | 532, 1064 | 266 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-548 |
| 45 | 532, 1064 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-781 |
| 45 | 532, 1064 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-780 |
| 45 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-714 |
| 45 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-698 |
| 0 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-658 |
| 0 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-659 |
| 0 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-662 |
| 0 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-663 |
| 0 | 532 | 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-668 |
| 0 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-669 |
| 0 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-674 |
| 0 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-675 |
Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務于生命科學，生物醫(yī)學，工業(yè)檢測，半導體，研發(fā)和國防等各個行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備，同時批量生產標準產品和定制產品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個以上的國家/地區(qū)，擁有員工1,000多名并還在繼續(xù)擴大。
光學濾光片簡介
濾光片選擇性地透射光譜的一部分，同時拒絕透射其余部分。愛特蒙特光學的光學濾光片常用于顯微鏡、光譜學、化學分析和機器視覺，可提供各種過濾類型和精度等級。本應用筆記介紹了用于制造愛特蒙特光學濾光片的不同技術、一些關鍵規(guī)范的定義以及愛特蒙特光學提供的各種濾光片的描述。
光學濾光片關鍵術語
雖然濾光片與其他光學組件有許多相同的規(guī)范，但是為了有效地了解并確定哪種濾光片適合您的應用，應該了解濾光片中的許多特定規(guī)范。
中心波長 (CWL)
用于定義帶通濾光片的中心波長描述頻譜帶寬的中點，濾光片在此之上傳輸。傳統的鍍膜光學濾光片傾向于在中心波長附近達到大的透射率，而鍍加硬膜的光學濾光片往往在光譜帶寬上有相當平坦的傳輸輪廓。
帶寬
帶寬是一個波長范圍，用于表示頻譜通過入射能量穿過濾光片的特定部分。帶寬又稱為FWHM（圖1）。
圖 1: 中心波長和半峰全寬說明
半峰全寬 (FWHM)
FWHM
描述帶通濾光片將傳輸的頻譜帶寬。該帶寬的上限和下限是在濾光片達到大透射率的 50% 時的波長下定義的。例如，如果濾光片的大透射率是 90%，那么濾光片達到透射率之 45% 時的波長將定義 FWHM 的上限和下限。10 納米或更低的 FWHM 被認為是窄帶，通常用于激光凈化和化學檢測。25-50 納米的 FWHM 經常用于機器視覺應用；超過 50 納米的 FHWM 被認為是寬帶，通常用于熒光顯微鏡應用。
截止范圍
阻斷范圍是用于表示通過濾光片衰減的能量光譜區(qū)域的波長間隔（圖2）。阻斷程度通常會在光密度中定。
圖 2: 截止范圍說明
斜率
斜率是通常在邊緣濾光片上定義的規(guī)范，如短波通或長波通濾光片，用來描述濾光片從高截止轉換為高透射率的帶寬?？梢詮母鞣N起點和終點定斜率，作為截止波長的百分比。愛特蒙特光學有限公司通常將斜率定義為從 10% 傳輸點到 80% 傳輸點的距離。例如，將期望具有 1% 斜率的 500 納米長波通濾光片在 5 納米（500 納米的 1%）帶寬上從 10% 的透射率轉換為 80% 的透射率。
光密度(OD)
光密度描述被濾光片阻斷或拒絕的能量量。高光密度值表示低透射率，低光密度則表示高透射率。6.0或更大的光密度用于兩端的阻斷需求，如拉曼光譜或熒光顯微鏡。3.0-4.0的光密度是激光分離和凈化、機器視覺和化學檢測的理想選擇，而 2.0 或更少的光密度是顏色排序和分離光譜順序的理想選擇。
圖3:光密度說明
二向色性濾光片
二向色性濾光片是用于取決于波長透射率或反射光的濾光片類型；特定波長范圍透射的光則鑒于不同范圍的光線反射或吸收（圖4）。二向色性濾光片常用于長波通和短波通應用。
圖
4:
二向色性濾光片鍍膜說明
起始波長
起始波長是用于表示在長波通濾光片中透射率增加至50%波長的術語。起始波長由圖5中的λcut-on起始表示。
圖 5:
起始波長說明
截止波長
截止波長是用于表示在短波通濾光片中透射率降低至50%波長的術語。截止波長由圖6中的λcut-off截止表示。
圖
6:
截止波長說明
Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務于生命科學，生物醫(yī)學，工業(yè)檢測，半導體，研發(fā)和國防等各個行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備，同時批量生產標準產品和定制產品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個以上的國家/地區(qū)，擁有員工1,000多名并還在繼續(xù)擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務于生命科學，生物醫(yī)學，工業(yè)檢測，半導體，研發(fā)和國防等各個行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備，同時批量生產標準產品和定制產品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個以上的國家/地區(qū)，擁有員工1,000多名并還在繼續(xù)擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務于生命科學，生物醫(yī)學，工業(yè)檢測，半導體，研發(fā)和國防等各個行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備，同時批量生產標準產品和定制產品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個以上的國家/地區(qū)，擁有員工1,000多名并還在繼續(xù)擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學、成像和光子技術供應商，自1942年成立以來一直服務于生命科學，生物醫(yī)學，工業(yè)檢測，半導體，研發(fā)和國防等各個行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備，同時批量生產標準產品和定制產品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個以上的國家/地區(qū)，擁有員工1,000多名并還在繼續(xù)擴大。
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